Фоторезист в настоящее время широко используется при обработке и производстве тонких графических схем в оптоэлектронной информационной индустрии. Стоимость процесса фотолитографии составляет около 35% всего процесса производства чипов, а затраты времени составляют от 40% до 60% всего процесса производства чипов. Это основной процесс в производстве полупроводников. Материалы фоторезиста составляют около 4% от общей стоимости материалов для изготовления микросхем и являются основными материалами для производства полупроводниковых интегральных схем.
Темпы роста китайского рынка фоторезистов выше, чем на международном уровне. По данным Института перспективных отраслевых исследований, местные поставки фоторезиста в моей стране в 2019 году составили около 7 миллиардов юаней, а совокупный темп роста с 2010 года достиг 11%, что намного превышает глобальные темпы роста. Однако на долю местных поставок приходится лишь около 10% мировой доли, а внутреннее замещение было достигнуто в основном фоторезистами для печатных плат низкого качества. Уровень самообеспеченности фоторезистов в ЖК и полупроводниковой области крайне низок.
Фоторезист — это среда для переноса графики, которая использует различную растворимость после реакции на свет для переноса рисунка маски на подложку. Он в основном состоит из светочувствительного агента (фотоинициатора), полимеризатора (светочувствительной смолы), растворителя и добавки.
Сырьем фоторезиста в основном являются смолы, растворители и другие добавки. Среди них наибольшая доля приходится на растворители, обычно более 80%. Хотя другие добавки составляют менее 5% массы, они являются ключевыми материалами, определяющими уникальные свойства фоторезиста, включая фотосенсибилизаторы, поверхностно-активные вещества и другие материалы. В процессе фотолитографии фоторезист равномерно наносится на различные подложки, такие как кремниевые пластины, стекло и металл. После экспонирования, проявления и травления рисунок на маске переносится на пленку с образованием геометрического рисунка, полностью соответствующего маске.
Фоторезист можно разделить на три категории в зависимости от области его дальнейшего применения: фоторезист для полупроводников, фоторезист для панелей и фоторезист для печатных плат.
Полупроводниковый фоторезист
В настоящее время KrF/ArF по-прежнему является основным обрабатывающим материалом. С развитием интегральных схем технология фотолитографии прошла путь развития от литографии G-линии (436 нм), литографии H-линии (405 нм), литографии I-линии (365 нм) до литографии DUV в глубоком ультрафиолете (KrF248 нм и ArF193 нм), Погружение на 193 нм плюс технология множественной визуализации (32–7 нм), а затем Также применялись литография в крайнем ультрафиолете (EUV, <13,5 нм) и даже неоптическая литография (воздействие электронным лучом, воздействие ионным лучом), а также различные типы фоторезистов с соответствующими длинами волн в качестве светочувствительных длин волн.
Рынок фоторезистов имеет высокую степень концентрации промышленности. Японские компании имеют абсолютное преимущество в области полупроводниковых фоторезистов. Основными производителями полупроводникового фоторезиста являются Tokyo Ohka, JSR, Sumitomo Chemical, Shin-Etsu Chemical в Японии; Dongjin Semiconductor в Южной Корее; и DowDuPont в США, среди которых японские компании занимают около 70% доли рынка. Что касается продукции, Tokyo Ohka лидирует в области фоторезистов g-line/i-line и Krf с долями рынка 27,5% и 32,7% соответственно. JSR имеет самую высокую долю рынка в области фоторезиста Arf - 25,6%.
По прогнозам Fuji Economic, мировые мощности по производству клеев ArF и KrF, как ожидается, достигнут 1870 и 3650 тонн в 2023 году, а объем рынка составит почти 4,9 млрд и 2,8 млрд юаней. Валовая прибыль японских лидеров фоторезиста JSR и TOK, включая фоторезист, составляет около 40%, из которых стоимость сырья для фоторезиста составляет около 90%.
В число отечественных производителей полупроводникового фоторезиста входят Shanghai Xinyang, Nanjing Optoelectronics, Jingrui Co., Ltd., Beijing Kehua и Hengkun Co., Ltd. В настоящее время только Beijing Kehua и Jingrui Co., Ltd. имеют возможность массово производить фоторезист KrF. , а продукция Beijing Kehua была поставлена в SMIC. Ожидается, что проект по производству фоторезиста ArF (сухой процесс) мощностью 19 000 тонн в год, строящийся в Шанхае, Синьян, выйдет на полную мощность в 2022 году.
Панельный фоторезист
Фоторезист – основной материал для производства ЖК-панелей. По мнению разных пользователей, его можно разделить на клей RGB, клей BM, клей OC, клей PS, клей TFT и т. д.
Панельные фоторезисты в основном включают четыре категории: фоторезисты для разводки TFT, фоторезисты для прокладок LCD / TP, цветные фоторезисты и черные фоторезисты. Среди них фоторезисты для разводки TFT используются для разводки ITO, а фоторезисты для осаждения LCD/TP используются для поддержания постоянной толщины жидкокристаллического материала между двумя стеклянными подложками ЖК-дисплея. Цветные фоторезисты и черные фоторезисты могут выполнять функции цветопередачи цветных фильтров.
Рынок панельных фоторезистов должен быть стабильным, а спрос на цветные фоторезисты является ведущим. Ожидается, что в 2022 году глобальные продажи достигнут 22 900 тонн, а объем продаж достигнет 877 миллионов долларов США.
Ожидается, что в 2022 году продажи фоторезистов для TFT-панелей, фоторезистов-прокладок LCD/TP и черных фоторезистов достигнут 321 млн долларов США, 251 млн долларов США и 199 млн долларов США соответственно. По оценкам Zhiyan Consulting, объем мирового рынка фоторезистов для панелей достигнет 16,7 млрд юаней в 2020 году, темпы роста около 4%. По нашим оценкам, к 2025 году рынок фоторезиста достигнет 20,3 миллиарда юаней. Среди них, с переносом промышленного центра ЖК-дисплеев, ожидается, что размер рынка и уровень локализации фоторезиста ЖК-дисплеев в моей стране будут постепенно увеличиваться.
фоторезист печатной платы
Фоторезист печатной платы можно разделить на УФ-отверждаемые чернила и УФ-спрей в зависимости от метода нанесения покрытия. В настоящее время отечественные поставщики чернил для печатных плат постепенно добились внутреннего замещения, а такие компании, как Rongda Photosensitivity и Guangxin Materials, освоили ключевые технологии чернил для печатных плат.
Отечественный фоторезист TFT и полупроводниковый фоторезист все еще находятся на начальной стадии исследования. Jingrui Co., Ltd., Yak Technology, Yongtai Technology, Rongda Photosensitivity, XiNYhua, China Electronics Rainbow и Feikai Materials имеют разработки в области фоторезиста TFT. Среди них Feikai Materials и Beixu Electronics планируют производственную мощность до 5000 тонн в год. Yak Technology вышла на этот рынок, приобретя подразделение цветного фоторезиста компании LG Chem, и имеет преимущества в каналах и технологиях.
Для отраслей с чрезвычайно высокими техническими барьерами, таких как фоторезист, достижение прорывов на техническом уровне является основой, а во-вторых, требуется постоянное совершенствование процессов для удовлетворения потребностей быстрого развития полупроводниковой промышленности.
Добро пожаловать на наш сайт для получения информации о продукции и консультаций.
Время публикации: 27 ноября 2024 г.