Метод PART/1CVD (химическое осаждение из паровой фазы): при 900-2300 ℃, с использованием TaCl5 и CnHm в качестве источников тантала и углерода, H₂ в качестве восстановительной атмосферы, Ar₂в качестве газа-носителя, пленки реакционного осаждения. Приготовленное покрытие компактное, однородное и имеет высокую чистоту. Однако есть некоторые проблемы...
Читать далее