Монокристаллический материал карбида кремния (SiC) имеет большую ширину запрещенной зоны (~Si в 3 раза), высокую теплопроводность (~Si в 3,3 раза или GaAs в 10 раз), высокую скорость миграции насыщения электронов (~Si в 2,5 раза), высокую электрическую проводимость пробоя. поле (~Si в 10 раз или GaAs в 5 раз) и другие выдающиеся характеристики.
Полупроводниковые материалы третьего поколения в основном включают SiC, GaN, алмаз и т. д., поскольку ширина запрещенной зоны (Eg) превышает или равна 2,3 электрон-вольта (эВ), они также известны как полупроводниковые материалы с широкой запрещенной зоной. По сравнению с полупроводниковыми материалами первого и второго поколения полупроводниковые материалы третьего поколения обладают преимуществами высокой теплопроводности, сильного электрического поля пробоя, высокой скорости миграции насыщенных электронов и высокой энергии связи, что может удовлетворить новые требования современной электронной технологии для высокой температура, высокая мощность, высокое давление, высокая частота и радиационная стойкость и другие суровые условия. Он имеет важные перспективы применения в области национальной обороны, авиации, аэрокосмической промышленности, разведки нефти, оптического хранения и т. д. и может снизить потери энергии более чем на 50% во многих стратегических отраслях, таких как широкополосная связь, солнечная энергетика, автомобилестроение, полупроводниковое освещение и интеллектуальные сети позволяют сократить объем оборудования более чем на 75%, что имеет важное значение для развития человеческой науки и технологий.
Semicera Energy может предоставить клиентам высококачественную проводящую (проводящую), полуизолирующую (полуизоляционную), HPSI (полуизоляционную) подложку из карбида кремния; Кроме того, мы можем предоставить клиентам гомогенные и гетерогенные эпитаксиальные листы карбида кремния; Мы также можем изготовить эпитаксиальный лист в соответствии с конкретными потребностями клиентов, при этом минимальный объем заказа не установлен.
ОСНОВНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ПРОДУКТА
| Размер | 6-дюймовый |
| Диаметр | 150,0 мм+0 мм/-0,2 мм |
| Ориентация поверхности | вне оси: 4°в направлении<1120>±0,5° |
| Основная плоская длина | 47,5 мм1,5 мм |
| Первичная плоская ориентация | <1120>±1,0° |
| Вторичная квартира | Никто |
| Толщина | 350,0 мкм±25,0 мкм |
| Политип | 4H |
| Проводящий тип | n-типа |
ХАРАКТЕРИСТИКИ КАЧЕСТВА КРИСТАЛЛА
| 6-дюймовый | ||
| Элемент | П-МОП класс | П-СБД Марка |
| Удельное сопротивление | 0,015 Ом·см-0,025 Ом·см | |
| Политип | Ничего не разрешено | |
| Плотность микротрубок | ≤0,2/см2 | ≤0,5/см2 |
| ЭПД | ≤4000/см2 | ≤8000/см2 |
| ТЕД | ≤3000/см2 | ≤6000/см2 |
| БЛД | ≤1000/см2 | ≤2000/см2 |
| ТСД | ≤300/см2 | ≤1000/см2 |
| SF (измерено UV-PL-355 нм) | ≤0,5% площади | ≤1% площади |
| Шестигранные пластины светом высокой интенсивности | Ничего не разрешено | |
| Визуальные включения углерода при свете высокой интенсивности | Совокупная площадь≤0,05% | |
Удельное сопротивление
Политип
БЛД и ТСД
-
Твердый CVD карбид кремния высокой чистоты SiC в массе
-
Изготовленный на заказ высокотемпературный карбид кремни...
-
Изготовленные на заказ детали с покрытием CVD TaC
-
Токоприемник пластины с покрытием из карбида тантала (TaC)
-
2″ Подложки из оксида галлия
-
Полупроводниковые керамические аксессуары из нитрида кремния
