Пьедестал из плавленого кварца от Semicera тщательно разработан, чтобы обеспечить непревзойденную поддержку и стабильность в различных высокотемпературных условиях. Разработан изкварц высокой чистоты, этот постамент идеально подходит для полупроводниковых процессов, в том числе диффузиивафляпроцесс и ЛПЦВД. Его исключительная термическая стойкость и химическая стойкость делают его идеальным выбором для сложных условий эксплуатации.
В Semicera мы уделяем приоритетное внимание качеству, гарантируя, что наши изделия из плавленого кварцевого стекла соответствуют самым высоким стандартам. Подставка из плавленого кварца не только повышает производительность, но и предлагает экономичное решение для тех, кто ищет надежные варианты из плавленого кварцевого стекла. Если вам это нужно для полупроводниковых кварцевых устройств или для других специализированных целей, наша подставка отличается своей долговечностью и точностью.
Преимущества плавленого кварцевого материала
1. Высокая термостойкость
Пьедестал из плавленого кварца имеет температуру размягчения около 1730°C, что позволяет ему выдерживать длительное использование при температурах от 1100°C до 1250°C. Более того, он может выдерживать кратковременное воздействие температур до 1450°C.
2. Коррозионная стойкость
Пьедестал из плавленого кварца химически инертен к большинству кислот, за исключением плавиковой кислоты. Его кислотостойкость превосходит керамику в 30 раз, а нержавеющую сталь – в 150 раз. При повышенных температурах ни один другой материал не может сравниться по химической стабильности с плавленым кварцем, что делает его идеальным выбором для суровых химических сред.
3. Термическая стабильность
Одной из выдающихся особенностей постамента из плавленого кварца является его минимальный коэффициент теплового расширения. Это свойство позволяет ему выдерживать серьезные температурные перепады, не растрескиваясь. Например, его можно быстро нагреть до 1100°C, а затем погрузить в воду комнатной температуры без каких-либо повреждений — важная характеристика для производственных процессов с высокими нагрузками.
