Графитовые держатели пластин с покрытием из карбида кремния

1. Выдающаяся термическая стабильность и проводимость.Наши подложки с SiC-покрытием превосходно поддерживают стабильные и постоянные температуры, что крайне важно для процессов CVD. Это обеспечивает равномерное распределение тепла, что приводит к превосходному качеству тонкой пленки и покрытия.

2. Точное производствоКаждый держатель пластин изготавливается в соответствии со строгими стандартами, что обеспечивает одинаковую толщину и гладкость поверхности. Эта точность жизненно важна для достижения стабильной скорости осаждения и свойств пленки на нескольких пластинах, что повышает общее качество производства.

3. Барьер примесейПокрытие SiC действует как непроницаемый барьер, предотвращая диффузию примесей из токоприемника в пластину. Это сводит к минимуму риски загрязнения, что имеет решающее значение для производства полупроводниковых приборов высокой чистоты.

4. Долговечность и экономическая эффективность.Прочная конструкция и покрытие SiC повышают долговечность держателей пластин, сокращая частоту замены токоприемника. Это приводит к снижению затрат на техническое обслуживание и минимизации простоев, повышая эффективность операций по производству полупроводников.

5. Параметры настройкиВафельные держатели Semicorex с покрытием SiC можно настроить в соответствии с конкретными технологическими требованиями, включая различия в размере, форме и толщине покрытия. Такая гибкость позволяет оптимизировать токоприемник в соответствии с уникальными требованиями различных процессов производства полупроводников. Возможности индивидуальной настройки позволяют разрабатывать конструкции токоприемников, адаптированные для специализированных применений, таких как крупносерийное производство или исследования и разработки, обеспечивая оптимальную производительность для конкретных случаев использования.