Пластина-пустышка из карбида кремния

Пластина-пустышка из карбида кремния от Semicera создана для удовлетворения потребностей современной высокоточной полупроводниковой промышленности. Этот материал известен своей исключительной долговечностью, высокой термической стабильностью и превосходной чистотой.вафлянеобходим для тестирования, калибровки и обеспечения качества при производстве полупроводников. Пластина-пустышка из карбида кремния от Semicera обеспечивает непревзойденную износостойкость, гарантируя, что она может выдерживать суровые условия эксплуатации без деградации, что делает ее идеальной как для исследований и разработок, так и для производственных сред.

Разработанная для поддержки различных применений, фиктивная пластина из карбида кремния часто используется в процессах, связанных сСи Вафля, SiC-подложка, СОИ пластина, SiN-подложка, иЭпи-Вафлятехнологии. Его выдающаяся теплопроводность и структурная целостность делают его отличным выбором для высокотемпературной обработки и обращения, которые распространены при производстве современных электронных компонентов и устройств. Кроме того, высокая чистота пластин сводит к минимуму риск загрязнения, сохраняя качество чувствительных полупроводниковых материалов.

В полупроводниковой промышленности макетная пластина из карбида кремния служит надежным эталонным образцом для испытаний новых материалов, включая оксид галлия Ga2O3 и пластину AlN. Эти новые материалы требуют тщательного анализа и испытаний, чтобы гарантировать их стабильность и эффективность в различных условиях. Используя фиктивную пластину Semicera, производители получают стабильную платформу, которая поддерживает стабильные характеристики, что помогает в разработке материалов следующего поколения для мощных, радиочастотных и высокочастотных приложений.