Введение в покрытие CVD TaC:
Покрытие CVD TaC — это технология, в которой используется химическое осаждение из паровой фазы для нанесения покрытия из карбида тантала (TaC) на поверхность подложки. Карбид тантала — это высокопроизводительный керамический материал с превосходными механическими и химическими свойствами. Процесс CVD создает однородную пленку TaC на поверхности подложки посредством газовой реакции.
Основные особенности:
Отличная твердость и износостойкость: Карбид тантала обладает чрезвычайно высокой твердостью, а покрытие CVD TaC может значительно улучшить износостойкость основы. Это делает покрытие идеальным для применения в условиях повышенного износа, например, в режущих инструментах и пресс-формах.
Высокая температурная стабильность: Покрытия TaC защищают критически важные компоненты печей и реакторов при температурах до 2200°C, демонстрируя хорошую стабильность. Он сохраняет химическую и механическую стабильность в экстремальных температурных условиях, что делает его пригодным для высокотемпературной обработки и применения в высокотемпературных средах.
Отличная химическая стабильность: Карбид тантала обладает высокой коррозионной стойкостью к большинству кислот и щелочей, а покрытие CVD TaC эффективно предотвращает повреждение подложки в агрессивных средах.
Высокая температура плавления: Карбид тантала имеет высокую температуру плавления (около 3880°C), что позволяет использовать CVD-покрытие TaC в условиях экстремально высоких температур без плавления и разрушения.
Отличная теплопроводность: Покрытие TaC обладает высокой теплопроводностью, что помогает эффективно отводить тепло при высокотемпературных процессах и предотвращать локальный перегрев.
Возможные применения:
• Компоненты эпитаксиального CVD-реактора из нитрида галлия (GaN) и карбида кремния, включая держатели пластин, спутниковые тарелки, душевые насадки, потолки и токоприемники.
• Компоненты для выращивания кристаллов карбида кремния, нитрида галлия и нитрида алюминия (AlN), включая тигли, держатели затравок, направляющие кольца и фильтры.
• Промышленные компоненты, включая нагревательные элементы сопротивления, форсунки, маскирующие кольца и приспособления для пайки.
Возможности приложения:
• Температурная стабильность выше 2000°C, что позволяет работать при экстремальных температурах.
• Устойчив к водороду (Гц), аммиаку (NH3), моносилану (SiH4) и кремнию (Si), обеспечивая защиту в агрессивных химических средах.
• Устойчивость к тепловому удару обеспечивает более быстрые рабочие циклы.
• Графит обладает прочной адгезией, что обеспечивает длительный срок службы и отсутствие отслаивания покрытия.
• Сверхвысокая чистота для устранения ненужных примесей и загрязнений.
• Конформное покрытие с жесткими размерными допусками.
Технические характеристики:
Получение плотных покрытий из карбида тантала методом CVD.:
TAC-покрытие с высокой кристалличностью и превосходной однородностью:
Технические параметры покрытия CVD TAC_Semicera:
Вышеуказанные значения являются типичными..
