Сырье, используемое при производстве тонера, обычно включает чешуйчатый графит, нефтяной кокс и микрокристаллические каменные чернила.Чем выше чистота графита, тем выше его потребительная стоимость.Методы очистки графита можно разделить на физические и химические.Методы физической очистки включают флотацию и высокотемпературную очистку, а методы химической очистки включают кислотно-основной метод, метод плавиковой кислоты и метод хлоридного обжига.
Среди них метод высокотемпературной очистки может использовать высокую температуру плавления (3773K) и точку кипения графита для достижения чистоты 4N5 и более высокой, что включает в себя испарение и выброс примесей с низкой температурой кипения, чтобы достичь цели очистка [6].Ключевой технологией тонера высокой чистоты является удаление следов примесей.В сочетании с характеристиками химической очистки и высокотемпературной очистки используется уникальный сегментированный композитный высокотемпературный термохимический процесс очистки для достижения очистки тонерных материалов высокой чистоты, а чистота продукта может превышать 6N.
Производительность и особенности продукта:
1, чистота продукта≥99,9999% (6Н);
2, стабильность углеродного порошка высокой чистоты, высокая степень графитизации, меньше примесей;
3. Степень детализации и тип можно настроить в соответствии с потребностями пользователей.
Основные области применения продукта:
■Синтез порошка SiC высокой чистоты и других твердофазных синтетических карбидных материалов.
■Выращивать алмазы
■Новые материалы теплопроводности для электронных изделий
■Высококачественный катодный материал литиевой батареи
■Соединения драгоценных металлов также являются сырьем.
-
Корпус эпитаксиального реактора с покрытием из карбида кремния
-
Высокотемпературный и устойчивый к коррозии светодиод Si...
-
Бочковой реактор для жидкофазной эпитаксии
-
Лоток MOCVD с антиокислительным покрытием SiC высокой чистоты
-
Полупроводниковая эпитаксия GaN на основе кремния
-
Реактор Semi-ceras Barrel: расширение возможностей полупроводников...